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邑文电子

半导体装备服务商

  • 最新轮次D轮
  • 融资金额超5亿人民币
  • 融资时间2024-01-29

企业简要

邑文科技主营半导体前道工艺设备的研发和制造,主要生产刻蚀工艺设备和薄膜沉积工艺设备,应用于半导体(IC及OSD)前道工艺阶段,特别是碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、砷化镓(GaAs)等化合物半导体和MEMS等特色工艺领域。自成立以来,邑文科技从设备翻新业务起步,前瞻性地布局含金量高的特色工艺刻蚀设备领域和薄膜沉积设备领域,聚焦半导体设备的自主创新研发,致力于促进我国半导体设备产业的国产化,并在多年的发展中积累了丰富的工艺流程经验,最终一步步成功转型为设备自主研发企业。得益于完善的人才储备和由此而形成的创新动能,邑文科技在特色工艺刻蚀、薄膜设备国产自主研发上形成了深厚的积累。目前,公司拥有全自主知识产权的刻蚀设备、CVD薄膜沉积设备、去胶设备、ALD设备,覆盖刻蚀、去胶、ALD、CVD、固胶、退火等多个类别。

工商信息显示,无锡邑文微电子科技股份有限公司法定代表人为廖海涛, 成立于2011-03-07,注册资本36000.00万人民币, 公司经营状态为存续,所属行业为专用设备制造业, 注册地址位于无锡市新吴区观山路1号。

数据来源: 公开资料整理

AI市场洞察

企业基础信息「核心速览」

  • 公司身份:无锡邑文微电子科技股份有限公司(简称:邑文电子/邑文科技),成立时间2011-03-07,所在地江苏无锡市,注册资本36000.00万元,统一社会信用代码913202145668931949,法定代表人廖海涛。
  • 经营范围:半导体器件专用设备制造与销售、电子专用设备制造与销售、技术进出口等。
  • 业务根基:所属行业半导体设备(专用设备制造业),核心业务为半导体前道工艺设备(刻蚀设备和薄膜沉积设备)的研发与制造,聚焦化合物半导体(碳化硅、氮化镓、砷化镓)及MEMS等特色工艺领域。
  • 资本轨迹:累计披露融资金额5.50亿元,融资次数7次;最新一轮为D轮,金额超5亿人民币,日期2024-01-29。

融资动态「时间轴梳理」

  • 最新融资:D轮,金额超5亿人民币,投资方包括中金资本、海通新能源、磐衡投资、洪泰基金、西安常青、千曦资本、蜂云资本、超越摩尔投资、长江创新投资、楚商资本、凯恩睿昇、水木资本,日期2024-01-29。
    来源:企查查整合公开数据,发布日期:2026-09-23
  • 早期融资(倒序):
    • Pre-D轮(2023-04-28):金额未披露,投资方大众交通、建信国贸、允泰资本等。
    • C+轮(2022-12-23):金额未披露,投资方比亚迪、惠友投资、磐衡投资等。
    • C轮(2022-05-07):金额未披露,投资方海通新能源、金投致源等。
    • B+轮(2019-12-21):金额未披露,投资方展鹏科技、毅达资本。
    • B轮(2019-03-11):金额未披露,投资方锡创投。
    • A轮(2018-02-13):金额未披露,投资方锡创投。
  • 资金用途:据公开资讯,公司已进入上市辅导,自研12英寸半导体设备已交付成都比亚迪半导体产线,总部基地研发办公大楼已封顶,建成后年产330台套半导体前道工艺设备,资金主要用于研发扩产与市场拓展。
    来源:企查查工商经营信息,发布日期:2026-09-23

创始人&团队「背景透视」

  • 核心创始人:廖海涛(法定代表人),具体教育背景及从业经历未披露。
  • 关键成员:核心团队信息未披露。
  • 团队互补性:公司获评国家级专精特新“小巨人”、省级独角兽企业,表明团队在半导体设备研发与产业化方面具备较强技术积累与资源整合能力。但具体成员背景未公开,无法进一步分析互补性。

公司经营「关键指标」

  • 营收与盈利:近周期营收及盈利情况未披露。
  • 客户画像:平均单客价值、前5大客户占比、复购率均未披露。但据公开资讯,公司自研12英寸半导体设备已交付成都比亚迪半导体产线,显示其客户包括比亚迪等头部企业。
  • 收益与竞争力:
    • 核心收益来源:半导体前道工艺设备(刻蚀设备和薄膜沉积设备)的研发与销售。
    • 核心竞争力:聚焦化合物半导体(碳化硅、氮化镓、砷化镓)刻蚀与薄膜工艺,拥有CCP SiC Trench刻蚀等关键技术;获评省级独角兽、专精特新“小巨人”企业;累计融资超5.5亿元,资本认可度高。

行业&政策「趋势研判」

  • 行业趋势:半导体设备国产替代加速,化合物半导体(SiC、GaN等)市场快速增长,MEMS特色工艺需求旺盛。公司聚焦的刻蚀与薄膜沉积设备属于半导体制造核心环节,赛道处于高速成长期。
  • 政策支持:国家及地方出台多项集成电路产业扶持政策,如国家集成电路产业大基金、《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》等;公司所在地江苏无锡将半导体产业作为重点发展的战略性新兴产业,提供研发补贴、税收优惠及上市辅导支持。具体政策名称及补贴金额未披露。

核心信息「一句话提炼」

  • 核心优势:技术壁垒突出(化合物半导体刻蚀/薄膜工艺),获比亚迪等头部客户订单,融资规模大(D轮超5亿元),已进入上市辅导。
  • 关键挑战:国际半导体设备巨头(如应用材料、泛林、东京电子)在成熟制程领域竞争压力大,技术迭代速度快,需持续高研发投入。
  • 未来潜力:长期受益于半导体国产替代政策红利,化合物半导体及MEMS市场空间广阔,若成功上市将获得更强资本支持,进一步扩大产能与市场份额。

历史融资

D轮
2024-01-29
融资金额超5亿人民币
等待系统生成中...
Pre-D轮
2023-04-28
融资金额未披露
涉及机构
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C+轮
2022-12-23
融资金额未披露
等待系统生成中...