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迪思微

光掩模制造商

  • 最新轮次A轮
  • 融资金额未披露
  • 融资时间2025-05-15

企业简要

无锡迪思是从事掩模代工业务的专业公司,是国内最早从事光掩模制造的专业企业,拥有国内领先的光掩模制造设备、技术工艺、质量控制和信息安全保护措施,是国内少数有能力生产中高端掩模的公司。公司目前已认证客户覆盖中国大陆主要晶圆代工厂、知名IC设计公司,且已拓展至日韩、台湾等地区,客户数量在国内处于行业前列。

工商信息显示,无锡迪思微电子股份有限公司法定代表人为吕健, 成立于2012-07-20,注册资本36000.00万人民币, 公司经营状态为存续,所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业, 注册地址位于无锡新吴区新锦路27号。

数据来源: 公开资料整理

当前轮次涉及机构

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企业基础信息「核心速览」

  • 公司身份:无锡迪思微电子股份有限公司(简称:迪思微),成立时间2012年07月20日,所在地江苏无锡市。工商登记:注册资本36000.00万元,统一社会信用代码913202145986333705(注册号码),法定代表人吕健。
  • 经营范围:电子专用材料研发、制造与销售,集成电路设计、制造与销售,电子产品销售,技术服务与进出口等。
  • 业务根基:所属行业芯片半导体,核心业务为光掩模(光刻掩模版)的制造与代工,是国内最早从事光掩模制造的专业企业,具备中高端掩模生产能力。
  • 资本轨迹:累计披露融资金额5.20亿元,融资次数2次。最近一轮融资:A轮,金额未披露,日期2025-05-15。

融资动态「时间轴梳理」

  • 融资事件日历(最新→早期)
    • 最新融资:A轮,金额未披露,投资方明道创投,日期2025年05月15日。
    • 早期融资:B轮,金额5.2亿元,投资方中信证券投资、中金资本、证裕投资、珩创投资、尚颀资本、锡创投、梧桐树资本、复朴投资、中科英智、粤科鑫泰股权投资基金,日期2023年11月28日。
  • 资金用途
    • 最新融资(A轮):未披露资金分配方向及战略目标。
    • 早期融资(B轮):资金用于持续提升光掩模的技术水平和产能,目标成为国内最大的开放式半导体掩模工厂。

创始人&团队「背景透视」

  • 核心创始人:未披露。
  • 关键成员:未提及。
  • 团队互补性:未披露,暂无法评估团队能力结构。

公司经营「关键指标」

  • 营收与盈利:近周期营收未披露,复合增长率未披露,累计亏损/盈利状态未披露。
  • 客户画像:平均单客价值未披露,前5大客户占比未披露,复购率未披露。公司已认证客户覆盖中国大陆主要晶圆代工厂、知名IC设计公司,并拓展至日韩、台湾等地,客户数量国内行业前列。
  • 收益与竞争力
    • 核心收益来源:光掩模产品销售与代工服务。
    • 核心竞争力:国内少数有能力生产中高端掩模的企业,拥有国内领先的光掩模制造设备、技术工艺和质量控制体系;2023年入选国家级专精特新“小巨人”企业,并获评“江苏省光掩模工程技术研究中心”。

行业&政策「趋势研判」

  • 行业趋势:光掩模是半导体制造核心精密部件,中高端市场长期被外资垄断,国产替代空间巨大。国内半导体市场规模迅速扩大,掩模需求快速增长,行业处于成长期。
  • 政策支持
    • 广东发布《加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)》,提出培育千亿级光芯片产业集群,支持光芯片制造、材料装备攻关等,与迪思微的光掩模制造业务高度契合。
    • 苏州《加快发展AI芯片产业的若干措施》明确对首次流片、光罩制作等费用给予最高1000万元支持,利好光掩模上游需求。
    • 珠海《促进集成电路产业发展的若干政策措施》通过基金引导、流片补贴等方式支持集成电路制造,光掩模作为关键环节受益。
  • 战略匹配度:公司聚焦中高端掩模国产替代,与多地政策导向一致,有望获得研发补贴、产能建设支持,加速技术突破与市场拓展。

核心信息「一句话提炼」

  • 核心优势:国内光掩模制造领域先行者,技术积累深厚(34年经验),客户覆盖主流晶圆厂和IC设计公司,入选专精特新“小巨人”企业,具备中高端产品能力。
  • 关键挑战:中高端掩模市场外资垄断格局短期内难以打破,国产化率提升需持续突破先进制程瓶颈,且面临产能扩张的资金与设备压力。
  • 未来潜力:受益于半导体产业链自主可控政策红利,以及广东、苏州等地方政府对光芯片/集成电路产业的专项扶持,公司有望通过产能扩充和技术升级成为国内光掩模行业龙头。

历史融资

A轮
2025-05-15
融资金额未披露
涉及机构
明道创投
迪思微电子A轮融资用于发展中高端掩模业务,巩固国内光掩模代工领先地位,客户覆盖主流晶圆厂及IC设计公司。