宇微光学

宇微光学成立于2020年10月，公司依托华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室、武汉光电国家研究中心等国家级平台在集成电路制造领域十余年深耕取得的重要成果，致力于光刻掩模优化设计技术与软件（OPC软件）的自主开发，旨在打破Synopsys、Mentor、ASML-Brion三家美国公司垄断，保障我国IC制造厂商持续将芯片设计转化为芯片产品的能力。

工商信息显示，武汉宇微光学软件有限公司法定代表人为刘世元， 成立于2020-10-21，注册资本154.72万人民币， 公司经营状态为存续，所属行业为软件和信息技术服务业， 注册地址位于武汉东湖新技术开发区东信路SBI创业街8栋12层B123号（自贸区武汉片区）（一址多照）。

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