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尚积半导体科技股份有限公司是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商,主营设备包括金属溅射沉积(PVD),加强型等离子化学气相沉积(PECVD),等离子干法刻蚀(ETCH)三个领域,服务于为全球的功率器件(Power Device),微机电系统(MEMS)、先进封装(Advanced Packaging)、化合物半导体(III-V)、射频(RF)、集成电路(IC)客户。设备具备优异的重复性和稳定性、低故障率、长使用寿命、易操作维修。得到客户的广泛认可。 尚积半导体的氧化钒(VOx) 薄膜沉积,RF领域薄膜电阻关键工艺如氮化钽(TaN)等薄膜沉积,TC-SAW SiO2薄膜沉积,高真空吸气薄膜(Getter)沉积,技术参数均超越进口设备,在客户端已经量产,市占率遥遥领先。
工商信息显示,无锡尚积半导体科技股份有限公司法定代表人为王世宽, 成立于2021-06-22,注册资本2166.45万人民币, 公司经营状态为在业,所属行业为专用设备制造业, 注册地址位于无锡市新吴区长江南路35-312号厂房。
数据来源: 公开资料整理
无锡尚积半导体科技股份有限公司(简称:尚积半导体)成立于2021年6月22日,位于江苏无锡,注册资本2166.45万元,统一社会信用代码91320214MA26BPEU95,法定代表人王世宽。经营范围涵盖集成电路制造、半导体器件专用设备制造销售及技术服务等。公司专注半导体薄膜沉积与刻蚀领域,核心业务为自主研发生产PVD、PECVD、ETCH国产设备,服务于功率器件、MEMS、先进封装等客户。资本轨迹清晰,累计披露融资金额9.30亿元,融资5次,最新一轮Pre-IPO融资超3亿元,投资方包括中国中车、江苏战新投、广州产投等。