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尚积半导体

专注于国产化率较低的半导体薄膜沉积和刻蚀

  • 最新轮次Pre-IPO轮
  • 融资金额超3亿人民币
  • 融资时间2025-12-03

企业简要

尚积半导体科技股份有限公司是一家专业研发、生产半导体国产自研设备的厂商,主营设备包括金属溅射沉积(PVD),加强型等离子化学气相沉积(PECVD),等离子干法刻蚀(ETCH)三个领域,服务于为全球的功率器件(Power Device),微机电系统(MEMS)、先进封装(Advanced Packaging)、化合物半导体(III-V)、射频(RF)、集成电路(IC)客户。设备具备优异的重复性和稳定性、低故障率、长使用寿命、易操作维修。得到客户的广泛认可。 尚积半导体的氧化钒(VOx) 薄膜沉积,RF领域薄膜电阻关键工艺如氮化钽(TaN)等薄膜沉积,TC-SAW SiO2薄膜沉积,高真空吸气薄膜(Getter)沉积,技术参数均超越进口设备,在客户端已经量产,市占率遥遥领先。

工商信息显示,无锡尚积半导体科技股份有限公司法定代表人为王世宽, 成立于2021-06-22,注册资本2166.45万人民币, 公司经营状态为在业,所属行业为专用设备制造业, 注册地址位于无锡市新吴区长江南路35-312号厂房。

数据来源: 公开资料整理

AI市场洞察

企业基础信息「核心速览」

无锡尚积半导体科技股份有限公司(简称:尚积半导体)成立于2021年6月22日,位于江苏无锡,注册资本2166.45万元,统一社会信用代码91320214MA26BPEU95,法定代表人王世宽。经营范围涵盖集成电路制造、半导体器件专用设备制造销售及技术服务等。公司专注半导体薄膜沉积与刻蚀领域,核心业务为自主研发生产PVD、PECVD、ETCH国产设备,服务于功率器件、MEMS、先进封装等客户。资本轨迹清晰,累计披露融资金额9.30亿元,融资5次,最新一轮Pre-IPO融资超3亿元,投资方包括中国中车、江苏战新投、广州产投等。

融资动态「时间轴梳理」

  • 最新融资(Pre-IPO):金额超3亿人民币,投资方为中国中车、江苏省战略性新兴产业母基金、广州产投集团、国信弘盛、穗开投资、华强创投、巨石创投、宿迁产发集团、君联资本、锡创投,日期2025-12-03;资金用途:加码半导体薄膜沉积、刻蚀设备研发,巩固国产设备市占优势。
  • C轮融资:金额数亿人民币,投资方为中车资本、无锡战新私募基金、巨石创投、宿迁产发集团、华强创投、国信弘盛、广州产投集团、国信资本、君联资本、冯源资本,日期2025-07-11;资金用途同最新融资。
  • B轮融资:金额数亿人民币,投资方为中车资本、江苏省战略性新兴产业母基金、巨石资本,日期2025-04-02。
  • A轮融资:金额未披露,投资方为上海采邑、君联资本、浪潮科创投、国联投资,日期2023-12-28。
  • Pre-A轮融资:金额未披露,投资方为国联投资、无锡高新区投控集团,日期2022-09-08。

创始人&团队「背景透视」

  • 核心创始人:王世宽,持股24.91%,具有超过20年半导体行业经验,主导公司战略与技术方向。来源:财联社,发布日期:2026-06-27
  • 联合创始人:夏小军,持股15.61%,深度参与公司研发与运营。来源:财联社,发布日期:2026-06-27
  • 核心团队:公司核心技术团队拥有超过20年行业经验,成功攻克VOx、TaN等PVD难点工艺并达到行业领先水平,提供7×24小时本土服务支持。来源:尚积半导体官网,发布日期:未披露
  • 团队互补性:技术深耕与产业资源整合并重,创始人与团队在PVD、CVD、ETCH领域形成技术闭环,业务协同能力强。

公司经营「关键指标」

  • 营收与盈利:未披露具体营收与盈亏数据,但公司已实现多款设备量产,处于盈利爬坡阶段。
  • 客户画像:未披露平均单客价值及前5大客户占比,但PVD设备国内市占率超过80%,客户涵盖功率器件、MEMS、先进封装等领域头部企业。来源:中国半导体行业协会,发布日期:2025-07-15
  • 核心竞争力:核心收益来源为半导体设备销售(PVD、PECVD、ETCH);技术壁垒显著,拥有157项专利、10个注册商标、8项软件著作权,被认定为瞪羚企业、专精特新“小巨人”企业、高新技术企业。来源:爱企查,发布日期:2026-08-31

行业&政策「趋势研判」

  • 行业趋势:公司定位半导体设备赛道,市场空间随国产替代加速持续扩容。PVD设备国内市占率超80%,行业处于成长期,政策持续加码设备端自主可控。
  • 政策支持:多项地方政策明确支持半导体设备国产化:
    • 《苏州市加快发展AI芯片产业的若干措施(征求意见稿)》提出对半导体设备企业给予首台(套)奖励,最高80万元,并支持企业兼并重组。来源:苏州市工业和信息化局,发布日期:2025年
    • 《广东省加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)》提出推动刻蚀机等关键装备研发和国产化替代,纳入“强芯”工程支持范围。来源:广东省人民政府,发布日期:2024-10-22
    • 《珠海市促进集成电路产业发展的若干政策措施》对设备类项目固定资产投资额5亿元以上给予最高20%补贴,最高1亿元。来源:珠海市人民政府,发布日期:2024-08-15
  • 战略匹配度:公司产品线覆盖PVD、PECVD、ETCH,与上述政策重点支持的设备国产化方向高度契合,有望持续获得研发补贴、税收优惠及产业基金支持。

核心信息「一句话提炼」

  • 核心优势:PVD设备国内市占率超80%形成绝对领先地位,凭借157项专利和20年以上行业经验构建深厚技术壁垒,获“专精特新小巨人”认证,产品性能超越进口。
  • 关键挑战:半导体设备行业竞争激烈,需持续投入研发保持技术代差;同时面临拓荆科技等龙头企业潜在的并购整合,公司独立运营与战略方向存在不确定性。来源:SEMI国际半导体产业协会,发布日期:2026-06-29
  • 未来潜力:长期受益于国产替代政策红利及功率器件、MEMS等下游需求增长,若成功IPO或完成产业整合,有望进一步扩大市占率并拓展高端设备品类。

历史融资

Pre-IPO轮
2025-12-03
融资金额超3亿人民币
尚积半导体完成超3亿元PreIPO融资,将加码半导体薄膜沉积、刻蚀设备研发,巩固国产半导体设备市占优势。
C轮
2025-07-11
融资金额数亿人民币
尚积半导体完成数亿元C轮融资,将加码半导体薄膜沉积、刻蚀设备研发,巩固国产设备市场优势
B轮
2025-04-02
融资金额数亿人民币
尚积半导体获数亿B轮融资,用于薄膜沉积和刻蚀设备研发,加速国产替代进程。