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源拓真空

专注真空镀膜设备国产化

  • 最新轮次A
  • 融资金额未披露
  • 融资时间2025-11-27

企业简要

苏州源拓真空技术有限公司成立于2024-01-30,专注于真空镀膜设备国产化,PVD全面打破国外高端设备领域垄断,实现稳定的产业界良率优异评估,实现国内首家行业头部稳定性验证并形成稳定订单,远景规划依托半导体为基础产业,充分拓展新能源,面板,光伏等行业。

工商信息显示,苏州源拓真空技术有限公司法定代表人为叶育州, 成立于2024-01-30,注册资本1192.01万人民币, 公司经营状态为存续,所属行业为科技推广和应用服务业, 注册地址位于苏州市相城区高铁新城相融路588号中荷(苏州)科技创新港A幢501室-05。

数据来源: 公开资料整理

当前轮次涉及机构

苏州国发创投 中华开发资本 子米投资 国开科创

AI市场洞察

一、企业基础信息核心速览

  • 公司身份:苏州源拓真空技术有限公司(简称:源拓真空),成立时间2024年01月30日,所在地江苏苏州市;工商登记关键信息:注册资本1192.01万元,实缴资本1030.92万元,统一社会信用代码91310114MADBED9E4J,法定代表人叶育州;经营范围:涵盖半导体器件专用设备、电子专用材料、电子专用设备、光伏设备及元器件等相关产品的研发、销售及技术推广服务。
  • 业务根基:所属行业芯片半导体/科技推广和应用服务业,核心业务:专注真空镀膜设备国产化,PVD设备全面打破国外高端设备领域垄断,已通过国内首家行业头部稳定性验证并形成稳定订单,未来将以半导体为基础,拓展新能源、面板、光伏等行业市场。
  • 资本轨迹:累计披露融资金额未披露,融资次数1次;最近一轮融资:轮次A轮,金额未披露,日期2025年11月27日。

二、融资动态时间轴梳理

  • 融资事件日历
    • 最新融资:2025年11月27日完成A轮融资,金额未披露,投资方为苏州国发创投、中华开发资本、子米投资、国开科创。
  • 资金用途:未披露

三、创始人&团队背景透视

  • 核心创始人:未提及
  • 关键成员:未提及
  • 团队互补性:未披露

四、公司经营关键指标

  • 营收与盈利:近周期营收未披露,复合增长率未披露,累计盈亏情况未披露。
  • 客户画像:平均单客价值未披露,前5大客户占比未披露,复购率未披露。
  • 收益与竞争力:核心收益来源为真空镀膜设备销售;核心竞争力:国内首家实现PVD真空镀膜设备打破国外高端领域垄断,通过行业头部客户稳定性验证并获取稳定订单

五、行业&政策趋势研判

  • 行业趋势:赛道定位为半导体上游高端设备(真空镀膜设备),市场空间未披露,行业阶段处于成长期,国产替代需求旺盛。
  • 政策支持:地方层面苏州出台《苏州市加快发展AI芯片产业的若干措施(征求意见稿)》,政策契合点:对认定为省级、苏锡常首台(套)重大装备的半导体设备企业,分别给予80万元、50万元奖励,同时在资金扶持、人才引育、产业协同等方面对半导体相关企业给予全方位支持;此外广东、珠海等地均出台集成电路产业扶持政策,利好半导体国产化设备企业的市场拓展。

六、核心信息一句话提炼

  • 核心优势:率先实现高端真空镀膜设备国产化突破,已通过头部客户验证并获得稳定订单,获国资背景投资机构加持。
  • 关键挑战:国产化设备市场认可度仍需提升,长期面临外资品牌的市场竞争压力。
  • 未来潜力:长期受益于半导体、新能源、光伏等领域的国产替代政策红利,赛道成长空间广阔。

历史融资

A轮
2025-11-27
融资金额未披露
涉及机构
源拓真空完成金额未披露的A轮融资,将推进真空镀膜设备国产化,拓展半导体、新能源等应用领域。