雷诺真空技术

蚌埠雷诺真空技术有限公司其中包括多名经验丰富的海内外从事真空类设备开发多年的优秀人才，公司主要经营范围为中高端半导体工艺和真空镀膜设备的设计、加工、制造、工艺开发以及系统集成，包括磁控溅射镀膜设备(Sputter），增强型等离子体化学气相沉积设备(PECVD)，金属-有机物化学气相沉积设备(MOCVD)，原子层沉积设备(ALD)，离子束沉积设备(IBD)，以及二氧化锡(SnO2)透明导电玻璃生产设备。

工商信息显示，蚌埠雷诺真空技术有限公司法定代表人为孙嵩泉， 成立于2007-04-06，注册资本3000.00万人民币， 公司经营状态为存续，所属行业为非金属矿物制品业， 注册地址位于安徽省蚌埠市东海大道6318号。

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