创世威纳科技

AI市场洞察

一、企业基础信息核心速览

• 公司身份：全称山东创世威纳科技有限公司（简称：创世威纳科技），成立时间2008年09月04日，所在地山东省济南市；工商登记关键信息：注册资本1433.77万元，实缴资本1000万元，统一社会信用代码9111011668049973X4，法定代表人孙传峰，为国有控股高新技术企业、科技型中小企业。
• 经营范围：半导体器件专用设备、泵及真空设备的制造与销售，提供技术开发、技术咨询、技术转让等相关技术服务，兼营计算机软硬件及辅助设备、仪器仪表销售。
• 业务根基：所属行业为半导体设备、航空航天专用设备制造，核心业务为拥有15年微米纳米镀膜与刻蚀经验，为科研、工业客户提供标准化、集成化科研类真空设备，以及高效率、高稳定性生产类镀膜刻蚀设备，已在半导体、航空航天、核工业等多个领域实现成熟应用。
• 资本轨迹：累计披露融资金额未披露，融资次数1次；最近一轮融资为A+轮，融资金额未披露，融资日期2026年03月06日。

二、融资动态时间轴梳理

• 融资事件日历（倒序）：
  • 2026年03月06日 A+轮：融资金额未披露，投资方为中银国际投资、金浦投资。
• 资金用途：未披露

三、创始人&团队背景透视

• 核心创始人：未提及
• 关键成员：未提及
• 团队互补性：未披露

四、公司经营关键指标

• 营收与盈利：近周期营收未披露，复合增长率未披露，累计盈亏未披露。
• 客户画像：平均单客价值未披露，前5大客户占比未披露，复购率未披露，官方披露高精尖客户占比较高。
• 收益与竞争力：核心收益来源为半导体及真空专用设备销售；核心竞争力为拥有15年微米纳米镀膜与刻蚀技术积累，产品适配多行业膜系、刻蚀形貌工艺要求，覆盖科研、生产两大场景，已在半导体、微电子、航空航天、核工业等多个高精尖领域落地应用。

五、行业&政策趋势研判

• 行业趋势：赛道定位为半导体支撑产业+航空航天专用设备制造，市场空间未披露，半导体设备、航空航天装备赛道均处于成长期。
• 政策支持：全国多省市已出台航空航天产业专项扶持政策，包括《安徽省加快发展商业航天产业行动方案（2026—2028年）》《云南省支持低空经济健康发展的若干措施》《黑龙江省支持航空航天产业高质量发展若干政策措施》，各地政策均明确加大航空航天核心装备研发、生产端的补贴与扶持力度，公司产品适配航空航天领域生产研发需求，下游客户扩张将直接带动公司产品需求增长。

六、核心信息一句话提炼

• 核心优势：具备15年微米纳米镀膜刻蚀技术积累，产品覆盖多高精尖应用场景，已获头部机构A+轮投资，拥有高新技术企业、科技型中小企业资质，国有控股背景具备资源优势。
• 关键挑战：公开经营数据、团队信息披露不足，核心技术壁垒、市场份额等量化指标暂未公开。
• 未来潜力：长期受益于半导体国产替代、航空航天产业政策红利，下游产能扩张带动专用设备需求提升，发展空间充足。