拓荆科技

　　拓荆科技股份有限公司主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司主要产品为半导体薄膜沉积设备包括PECVD设备、ALD设备及SACVD设备三个系列。\r\n　　拓荆科技是国内*一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，以前后两任董事长为核心的五名国家级海外高层次专家组建起一支国际化的技术团队，形成了三大类半导体薄膜设备产品系列，先后四次承担国家重大科技专项/课题，被中国半导体行业协会评为2016年度、2017年度、2019年度“中国半导体设备五强企业”。截至本招股说明书签署日，公司已获授权专利167项（境内150项，其他国家或地区17项），其中发明专利86项（境内69项，其他国家或地区17项）。公司获得2017年辽宁省政府颁发的“辽宁省科学技术进步一等奖”，中国电子专用设备工业协会2016年度“中国半导体创新产品”认证，2019年国家知识产权局颁发的“国家知识产权示范企业”称号，2021年中国集成电路创新联盟颁发的“技术创新奖”，中国半导体行业协会颁发的2016年、2017年、2019年“中国半导体设备五强企业”称号。

工商信息显示，拓荆科技股份有限公司法定代表人为刘静， 成立于2010-04-28，注册资本28116.39万人民币， 公司经营状态为存续，所属行业为专用设备制造业， 注册地址位于辽宁省沈阳市浑南区全运路109-3号（109-3号）14层。

数据来源: 公开资料整理